机译:四甲基氢氧化铵/异丙醇湿蚀刻对aFm光刻制备的硅纳米线几何形状和表面粗糙度的影响
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:通过AFM纳米照相术制造的硅纳米电子晶体管,接着进行湿法化学蚀刻工艺
机译:具有自对准双浮栅的纳米闪光器件,采用斯堪宁探针光刻技术和四甲基氢氧化铵湿法蚀刻
机译:异丙醇(IPA)对KOH溶液中刻蚀硅的刻蚀速率和表面粗糙度的影响
机译:使用硅的氢氧化钾各向异性刻蚀制造的场发射器件。
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:蚀刻对AFM光刻图形化的硅纳米线晶体管形成的影响。